NiCrAlY Sputtering ಟಾರ್ಗೆಟ್ ಹೈ ಪ್ಯೂರಿಟಿ ಥಿನ್ ಫಿಲ್ಮ್ Pvd ಕೋಟಿಂಗ್ ಕಸ್ಟಮ್ ಮೇಡ್

NiCrAlY Sputtering ಗುರಿಯನ್ನು ನಿಕಲ್ ಕ್ರೋಮಿಯಂ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ Yttrium ನ ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳ ನಿರ್ವಾತ ಕರಗುವಿಕೆಯಿಂದ ಉತ್ಪಾದಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಇದು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಉತ್ತಮವಾದ ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ರಂಧ್ರಗಳಿಲ್ಲ.ಕ್ರೋಮಿಯಂನ ಅದರ ಸಂಯೋಜನೆಯು 10-30% (wt), ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ 10-20% (wt), Yttrium 0.5-1.0% (wt) ವರೆಗೆ ಇರುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು γ+β ನ ದ್ವಿ-ಪದರದ ರಚನೆಯನ್ನು ಹೊರಹಾಕುತ್ತದೆ.
NiCrAlY ಪದರವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಉಷ್ಣ ತಡೆಗೋಡೆ ಲೇಪನಗಳಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಹೆಚ್ಚಿನ-ತಾಪಮಾನದ ತುಕ್ಕು ಅನಿಲಗಳು, ಘನ ಅಥವಾ ಕರಗಿದ ಲವಣಗಳು ಅಥವಾ ಕರಗಿದ ಲೋಹಗಳಿಂದ ಕ್ರೋಮಿಯಾ-ರೂಪಿಸುವ ಕಬ್ಬಿಣ, ನಿಕಲ್ ಮತ್ತು ಕೋಬಾಲ್ಟ್-ಬೇಸ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳ ರಾಸಾಯನಿಕ ದಾಳಿಯನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 400 ° C (750ºF) ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ.ವಿಮಾನ ಮತ್ತು ಗ್ಯಾಸ್ ಟರ್ಬೈನ್‌ನ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಹಂತದ ಮಿಶ್ರಲೋಹದಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುವ NiCrAlY ಪದರದ ಅನ್ವಯವು ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಉತ್ಪನ್ನದ ಜೀವನವನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸುತ್ತದೆ.