ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನದಲ್ಲಿ ಗುರಿಯನ್ನು ಚೆಲ್ಲುವ ಪಾತ್ರಗಳು ಯಾವುವು

ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಟಾರ್ಗೆಟ್ ವಸ್ತುಗಳ ಆಯ್ಕೆಯಲ್ಲಿ ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನವು ಪ್ರಸ್ತುತ ಜನರಿಗೆ ಸಮಸ್ಯೆಯಾಗಿದೆ, ಏಕೆಂದರೆ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಲೇಪನ, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಲೇಪನ ಕೌಶಲ್ಯಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ, ತೆಳು ಫಿಲ್ಮ್ಗಳ ವಸ್ತು ತಯಾರಿಕೆಯನ್ನು ಗುರಿಯಾಗಿಸಲು ಸಾಧ್ಯವಾಗುವಂತೆ ಯಾವುದೇ ಮಾಹಿತಿಗಾಗಿ ಹೇಳಬಹುದು. ಅಯಾನು ಬಾಂಬ್ ಸ್ಫೋಟದಿಂದ, ಏಕೆಂದರೆ ಲೇಪನದ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಗುರಿ ವಸ್ತುವನ್ನು ತಲಾಧಾರದ ಪ್ರಕಾರಕ್ಕೆ ಚೆಲ್ಲುವ ಮೂಲಕ, ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಮೇಲೆ ಪ್ರಮುಖ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ, ಗುರಿ ವಸ್ತು ಅಗತ್ಯತೆಗಳು ಹೆಚ್ಚು ಕಠಿಣವಾಗಿರುತ್ತವೆ.ಬೀಜಿಂಗ್ ರಿಲ್ಯಾಕ್ಸೇಶನ್‌ನ ಸಂಪಾದಕರೊಂದಿಗೆ ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನದಲ್ಲಿ ಗುರಿಯನ್ನು ಚೆಲ್ಲುವ ಪಾತ್ರದ ಬಗ್ಗೆ ನಾವು ಇಲ್ಲಿ ಕಲಿಯುತ್ತೇವೆ

一、ಆಯ್ಕೆ ತತ್ವ ಮತ್ತು ಗುರಿ ವಸ್ತುಗಳ ವರ್ಗೀಕರಣ

ಗುರಿ ವಸ್ತುಗಳ ಆಯ್ಕೆಯಲ್ಲಿ, ಚಿತ್ರದ ಬಳಕೆಯ ಜೊತೆಗೆ, ಈ ಕೆಳಗಿನ ಸಮಸ್ಯೆಗಳನ್ನು ಸಹ ಪರಿಗಣಿಸಬೇಕು:

ಸಮಸ್ಯೆ 1. ಮೆಂಬರೇನ್ನ ಬಳಕೆ ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಅಗತ್ಯತೆಗಳ ಪ್ರಕಾರ, ಶುದ್ಧತೆ, ಮ್ಯಾಗಜೀನ್ ವಿಷಯ, ಘಟಕ ಏಕರೂಪತೆ, ಯಂತ್ರದ ನಿಖರತೆ ಮತ್ತು ಮುಂತಾದವುಗಳ ತಾಂತ್ರಿಕ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸಲು ಗುರಿ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಇದು ಅವಶ್ಯಕವಾಗಿದೆ.

ಸಮಸ್ಯೆ 2. ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆಯ ನಂತರ ಗುರಿ ವಸ್ತುವು ಉತ್ತಮ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರಬೇಕು;

ಸಮಸ್ಯೆ 3. ಫಿಲ್ಮ್ ವಸ್ತುವು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಆಗಿ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಅನಿಲದೊಂದಿಗೆ ಸಂಯುಕ್ತ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಸುಲಭವಾಗಿ ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ಅವಶ್ಯಕವಾಗಿದೆ;

ಸಮಸ್ಯೆ 4. ಗುರಿ ಮತ್ತು ಮ್ಯಾಟ್ರಿಕ್ಸ್ ಅನ್ನು ಬಲವಾಗಿ ಹೊಂದಿಸುವುದು ಅವಶ್ಯಕ, ಇಲ್ಲದಿದ್ದರೆ, ಮ್ಯಾಟ್ರಿಕ್ಸ್ನೊಂದಿಗೆ ಉತ್ತಮ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯೊಂದಿಗೆ ಫಿಲ್ಮ್ ವಸ್ತುವನ್ನು ಅಳವಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಬೇಕು, ಮೊದಲು ಕೆಳಭಾಗದ ಫಿಲ್ಮ್ನ ಪದರವನ್ನು ಚೆಲ್ಲಬೇಕು ಮತ್ತು ನಂತರ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಫಿಲ್ಮ್ ಪದರವನ್ನು ತಯಾರಿಸಬೇಕು;

ಪ್ರಶ್ನೆ 5. ಚಿತ್ರದ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸುವ ಪ್ರಮೇಯದಲ್ಲಿ, ಗುರಿ ಮತ್ತು ಮ್ಯಾಟ್ರಿಕ್ಸ್ನ ಉಷ್ಣ ವಿಸ್ತರಣೆಯ ಗುಣಾಂಕದ ನಡುವಿನ ಸಣ್ಣ ವ್ಯತ್ಯಾಸವು ಉತ್ತಮವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಫಿಲ್ಮ್ನ ಉಷ್ಣ ಒತ್ತಡದ ಪ್ರಭಾವವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ;

ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಳಸುವ ಹಲವಾರು ಗುರಿಗಳ ತಯಾರಿಕೆ

(1) ಕೋಟಿ ಗುರಿ

ಕ್ರೋಮಿಯಂ ಅನ್ನು ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಫಿಲ್ಮ್ ವಸ್ತುವಾಗಿ ಸಂಯೋಜಿಸುವುದು ಸುಲಭವಲ್ಲ, ಮೂಲ ವಸ್ತುವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಮತ್ತು ಕ್ರೋಮಿಯಂ ಮತ್ತು ಆಕ್ಸೈಡ್ CrQ3 ಫಿಲ್ಮ್, ಅದರ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು, ಆಮ್ಲ ಪ್ರತಿರೋಧ ಮತ್ತು ಉಷ್ಣ ಸ್ಥಿರತೆ ಉತ್ತಮವಾಗಿದೆ.

ಬೀಜಿಂಗ್ ರುಯಿಚಿ ಹೈಟೆಕ್ ಕಂ., ಲಿಮಿಟೆಡ್ ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ತೊಡಗಿಸಿಕೊಂಡಿದೆ: ಟೈಟಾನಿಯಂ ಗುರಿ ಜಿರ್ಕೋನಿಯಮ್ ಗುರಿ, ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಗುರಿ, ನಿಕಲ್ ಗುರಿ, ಕ್ರೋಮಿಯಂ ಗುರಿ, ಟಂಗ್‌ಸ್ಟನ್ ಗುರಿ, ಮಾಲಿಬ್ಡಿನಮ್ ಗುರಿ, ತಾಮ್ರದ ಗುರಿ, ಸಿಲಿಕಾನ್ ಗುರಿ, ನಿಯೋಬಿಯಂ ಗುರಿ, ಟ್ಯಾಂಟಲಮ್ ಗುರಿ, ಟೈಟಾನಿಯಂ-ಸಿಲಿಕಾನ್ ಗುರಿ, ಟೈಟಾನಿಯಂ-ನಿಯೋಬಿಯಮ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಗುರಿ, ಟೈಟಾನಿಯಂ-ಟಂಗ್ಸ್ಟನ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಗುರಿ, ಟೈಟಾನಿಯಂ-ಜಿರ್ಕೋನಿಯಮ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಗುರಿ, ನಿಕಲ್-ಕ್ರೋಮಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಗುರಿ, ಸಿಲಿಕಾ-ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಗುರಿ, ನಿಕಲ್-ವನಾಡಿಯಮ್ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಗುರಿ, ಕ್ರೋಮಿಯಂ-ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ-ಸಿಲಿಕಾನ್ ಟರ್ನರಿ ಮಿಶ್ರಲೋಹ ಗುರಿ, ಟಿಐ ತ್ರಯಾತ್ಮಕ ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಗುರಿ ವಸ್ತು, ಅಲಂಕಾರ/ಗಟ್ಟಿಯಾದ ಮೇಲ್ಮೈ ಮತ್ತು ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಲೇಪನ, ವಾಸ್ತುಶಿಲ್ಪದ ಗಾಜು, ಫ್ಲಾಟ್ ಡಿಸ್ಪ್ಲೇ/ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ದ್ಯುತಿವಿದ್ಯುತ್, ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಸ್ಟೋರೇಜ್, ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್, ಮುದ್ರಣ ಮತ್ತು ಇತರ ವೃತ್ತಿಗಳಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.