ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ಜಿರ್ಕೋನಿಯಮ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಗುರಿಗಳು

ರಿಚ್ ಸ್ಪೆಷಲ್ ಮೆಟೀರಿಯಲ್ಸ್ ಕಂ., ಲಿಮಿಟೆಡ್.ಅರೆವಾಹಕ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ (CVD) ಮತ್ತು ಭೌತಿಕ ಆವಿ ಠೇವಣಿ (PVD) ಪ್ರದರ್ಶನ ಮತ್ತು ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಕೆಗಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ಜಿರ್ಕೋನಿಯಮ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಗುರಿಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಂಭವನೀಯ ಸಾಂದ್ರತೆ ಮತ್ತು ಚಿಕ್ಕ ಸಂಭವನೀಯ ಸರಾಸರಿ ಧಾನ್ಯದ ಗಾತ್ರಗಳೊಂದಿಗೆ.ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಾಗಿ ನಮ್ಮ ಪ್ರಮಾಣಿತ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಗುರಿಗಳು ಮೊನೊಬ್ಲಾಕ್‌ನಲ್ಲಿ ಲಭ್ಯವಿವೆ ಅಥವಾ ಪ್ಲ್ಯಾನರ್ ಟಾರ್ಗೆಟ್ ಆಯಾಮಗಳೊಂದಿಗೆ ಬಂಧಿತವಾಗಿವೆ ಮತ್ತು 820 mm ವರೆಗಿನ ಸಂರಚನೆಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೋಲ್ ಡ್ರಿಲ್ ಸ್ಥಳಗಳು ಮತ್ತು ಥ್ರೆಡಿಂಗ್, ಬೆವೆಲ್ಲಿಂಗ್, ಗ್ರೂವ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಬ್ಯಾಕಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಹಳೆಯ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಡಿವೈಸ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಇತ್ತೀಚಿನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಸಾಧನಗಳೊಂದಿಗೆ ಕೆಲಸ ಮಾಡಲು ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾಗಿದೆ. ಸೌರ ಶಕ್ತಿ ಅಥವಾ ಇಂಧನ ಕೋಶಗಳಿಗೆ ದೊಡ್ಡ ಪ್ರದೇಶದ ಲೇಪನ ಮತ್ತು ಫ್ಲಿಪ್-ಚಿಪ್ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಂತಹವು.ಸಂಶೋಧನಾ ಗಾತ್ರದ ಗುರಿಗಳನ್ನು ಸಹ ಕಸ್ಟಮ್ ಗಾತ್ರಗಳು ಮತ್ತು ಮಿಶ್ರಲೋಹಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಎಲ್ಲಾ ಗುರಿಗಳನ್ನು ಎಕ್ಸ್-ರೇ ಫ್ಲೋರೊಸೆನ್ಸ್ (XRF) ಸೇರಿದಂತೆ ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾದ ಪ್ರದರ್ಶಿತ ತಂತ್ರಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ವಿಶ್ಲೇಷಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.